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AES俄歇電子能譜專輯之儀器設備篇

2024-08-26 09:23:09

***、超高真空(UHV)系統

二、電子源系統

三、能量分析器系統

四、五軸樣品臺

五、離子槍

氬氣離子槍作為AES的濺射源,可對材料進行表面清潔及縱向深度組成與結構分析。離子槍通過發射的電子束撞擊氬氣氣體分子,使其電離成帶正電的離子,隨后被聚焦和加速,形成***個高能離子束,然后轟擊到樣品表面。

圖6.深度剖析結果對比:(左)Zalar Rotation,(右)非Zalar Rotation。

PHI 710作為納米尺度的表面分析技術,提供了***高穩定性的 AES 成像平臺。該系統集成了隔聲罩、低噪聲電子系統、穩定的樣品臺和可靠的成像匹配軟件,可實現AES對納米***形貌特征的采譜和成像。此外,PHI 710具有強大的可擴展性,用戶可根據研究需求,靈活配置冷脆斷樣品臺、能量色散X射線能譜(EDS)、聚焦離子束(FIB)、電子背散射衍射(EBSD)和背散射電子(BSE)探測器等功能模塊。這些關鍵配置協同工作,共同賦予了PHI 710掃描俄歇納米探針系統無與倫比的分析能力與靈活性,使其成為材料科學、半導體工業等領域不可或缺的高端分析設備。


(文章來源于儀器網)

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