Helios NanoLab 450 雙束掃描電鏡是***款先進的設備，專為半導體失效分析、工藝開發和工藝控制實驗室設計。以下是***些關鍵特性：

1. 高分辨率成像與分析：Helios NanoLab 450 系列系統結合了創新的Elstar電子柱和UC技術，提供了亞納米***的SEM和STEM圖像分辨率。這使得設備能夠提供高對比度的高分辨率成像，這對于半導體失效分析至關重要。

2. 雙束技術：該系統結合了SEM（掃描電子顯微鏡）和FIB（聚焦離子束），能夠進行高質量的成像和快速、精確的銑削與沉積。

3. 快速、精確的樣品制備：Helios NanoLab 450S特別適合高通量、高分辨率的STEM樣品制備、成像和分析。其獨有的FlipStage和原位STEM探測器可以在幾秒鐘內將樣品從制備狀態翻轉到STEM成像狀態，無需破壞真空或暴露樣品于環境中。

4. 先進的離子柱技術：Tomahawk離子柱結合了高分辨率和出色的低電壓性能，不僅能夠實現***的離子圖像分辨率，還提供了精確的離子銑削，幫助確保在橫截面操作中不會破壞寶貴的缺陷信息。

5. 自動化操作：該系統提供了自動化的設置和操作，簡化了使用流程，減少了培訓需求，并***大化了設備的使用效率，降低了擁有成本。

6. 廣泛的應用領域：Helios NanoLab 450 雙束掃描電鏡適用于材料科學、微電子和半導體、汽車、實驗室測試設施、顯微鏡實驗室、機床制造商、鋼鐵工業、能源存儲和太陽能材料工業、文化遺產檢查、能源和石化公司等多個領域。

7. 提高生產效率：通過提供更快、更好的圖像，Helios NanoLab 450 F1能夠減少開發成本，加速工藝提升，并更快地將新產品推向市場。

8. 先進的STEM探測器：新的STEM探測器提供了更高的分辨率和更好的材料對比度，使得操作者能夠精確知道樣品何時足夠薄，有時甚至可以完全消除對獨立TEM分析的需求

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