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PLD脈沖激光沉積系統Pioneer240,180, 120,80

價  格:詢價

產  地:美國更新時間:2020-10-29 14:11

品  牌:Neocera型  號:Pioneer240,180, 120,80

狀  態:正常點擊量:1828

400-006-7520
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上海非利加實業有限公司

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配送方式: 上海自提或三方快遞

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脈沖激光沉積系統Pioneer240,180, 120,80 主要特點:

*PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸發,生產出與靶子同樣化學組成的膜。
*PLD應用廣泛:很多材料在多樣的氣體環境和很寬的氣體壓力范圍內都可以鍍膜。
*PLD節省成本:***束激光能夠供多個真空系統使用。
*PLD高效率:在10至15分鐘,可生長高質量的樣品。
*PLD可升***:當需要大批量生產復合氧化物膜時,Neocera公司將證明PLD作為生產工具的價值。


PLD 是***種復雜材料沉積的有效方法
脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition)是***種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發靶材,生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源(脈沖激光)位于真空室的外面。這樣,在材料合成時,工作壓力的動態范圍很寬,達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度,可以合成***系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。另外,PLD 是***種“ 數字” 技術,在納米尺度上進行工藝控制(?/pulse)。

? Neocera 在PLD 設備與工藝開發方面具有不可超越的經驗

? Pioneer 系列PLD 系統是全球研發領域***為廣泛使用的商業化系統

? Neocera 不僅為客戶提供***基本的PLD 系統,也提供完整的PLD 實驗室交鑰匙方案




產品參數

脈沖激光沉積系統Pioneer240,180, 120,80 技術參數:

型號

Pioneer240

Pioneer180

Pioneer120

Pioneer80

最大wafer直徑

8”

6”

2”

1”

最大靶材數量

6個1” 或4個2”

6個1” 或4個2”

6個1” 或3個2”

4個1”

壓力(Torr)

<10-8

<10-8

<10-8

<10-8

真空室直徑

24”

18”

12”  

8”

基片加熱器

8”,旋轉

6”,旋轉

3”, 旋轉

2”,旋轉

最高樣品溫度

850 ° C

850 ° C

950 ° C

950 ° C

Turbo泵抽速
(liters/sec)

800

260

260

70

計算機控制

包括

包括

包括

包括

基片旋轉

包括

包括

-

-

基片預真空室

包括

選件

選件

-

掃描激光束系統

包括

選件

-

-

靶預真空室

包括

-

-

-

IBAD離子束輔助沉積

選件

選件

選件

-

CCS連續組成擴展

選件

選件

-

-

高壓RHEED

選件

-

-

-

520 liters/sec泵

a/n

選件

-

-



產品介紹

脈沖激光沉積系統Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓越經驗的創新設計
Neocera 利用PLD 開展了深入廣泛的研究,建立了獲得***佳薄膜質量的臨界參數,特別適用于沉積復雜氧化物薄膜。
這些思考已經應用于Pioneer 系統的設計之中。
? 很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧壓(>100 Torr)下冷卻可獲得更高的質量。所有Pioneer 系統都具備此功能(壓力范圍可從額定初始壓強到大氣壓)。這也有益于納米粒子的生成。
? Pioneer PLD 系統的激光束入射角為45°,保持了激光密度在靶材上的***大均勻性,同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點,導致密度均勻性的損失。
? 為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵,消除油的回流對薄膜質量的影響,所有Pioneer 系統的標準配置都采用無油泵系統。
? 我們的研究表明靶和基片的距離是獲得***佳薄膜質量的關鍵參數。Pioneer 系統可以控制靶材和基片的距離,以達到***優的沉積條件。




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